英诺赛科在美被判专利侵权
7月8日，美国国际贸易委员会做出初步裁决，确认宜普公司持有的氮化镓技术等两项专利有效，并认定英诺赛科（珠海）科技有限公司及其美国子公司存在侵犯这些氮化镓技术专利的行为。英诺赛科在美被判专利侵权。
此前，英诺赛科曾向中国国家知识产权局提出申请，质疑宜普公司的这两项核心技术专利有效性，但最终相关专利仍被确认有效。美国国际贸易委员会预计将于2024年11月5日公布最终裁决结果，这一决定可能导致英诺赛科的侵权产品在未来被禁止进入美国市场。
英诺赛科近期动作引人注目，其已向香港联交所递交上市申请，意图登陆港股。然而，当前的专利诉讼案对其IPO进程的具体影响尚未明朗。
英诺赛科自2015年底成立以来，专攻氮化镓技术的研发与应用，自主研发了芯片制造及封装技术，产品线涵盖快速充电、无线充电、数据中心等多个领域，广泛应用于汽车电子等行业。公司市场覆盖全球多个地区，包括美国、欧洲、亚洲等地，但关于其产品涉及的核心专利详情，公司市场人员未予透露。
对于美国际贸易委员会的裁决，宜普公司CEO Alex Lidow表示，中美监管机构均维护了公司专利的有效性，增强了其行业竞争力。宜普强调，其半导体技术是人工智能领域革命的关键推手，能大幅节省空间、提升计算能力并减少能耗。
氮化镓作为一种新型电力转换技术，预示着未来可能替代硅基半导体，对提高能源效率及降低成本具有重要意义。据统计，氮化镓技术可望将全球能源效率提升15%-20%，对促进人工智能、卫星技术、仿人机器人及自动驾驶等领域快速发展尤为关键。
自2010年起，宜普公司开始商业化生产氮化镓晶体管，至今已拥有超过200项相关专利及150余种产品，涵盖集成电路、车规级器件等多个方面，凸显了氮化镓技术在全球范围内日益增长的重要性及激烈的市场竞争。行业专家预测，未来几年内全球氮化镓市场规模将迅速扩大至数十亿美元，并有望在十年内攀升至数百亿美元的新高。
